PVD（Physical Vapor Deposition）即物理气相沉积，是一种通过物理方法在基材表面沉积薄膜的电镀工艺。PVD镀膜工艺流程通常包括以下步骤：

一、前处理

清洗工件：在进行PVD镀膜前，需要对工件进行彻底的清洗，以去除表面的杂质、油脂、氧化物等有害物质，确保工件表面平整干净。清洗时，可以接通直流电源，利用氩气进行辉光放电，产生氩离子轰击工件表面，使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出。

预处理：清洗后的工件可能还需要经过进一步的预处理，如机械打磨、化学腐蚀、激光处理等，以提高电镀膜的附着力和均匀度。

二、镀膜准备

蒸发源装填：在PVD镀膜过程中，需要使用蒸发源来提供材料原子。蒸发源装填是将材料蒸发源放置在特定的位置，以便在镀膜过程中通过加热使其蒸发。

抽真空：将真空室内的残余气体抽走，以创造镀膜所需的真空环境条件。

加热烘烤：炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放，进一步提高真空度。

压升率测试：测试炉体的漏气率和放气率，确保真空环境条件满足镀膜标准。

三、镀膜过程

镀料的气化：通入交流电后，使镀料蒸发气化。

镀料离子的迁移：气化后的原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场的作用，高速冲向工件。

镀料原子、分子或离子在基体上沉积：当工件表面上的蒸发料离子数量超过溅失离子的数量时，这些离子将逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。如果是镀离子镀，蒸发料粒子电离后具有高能量，高速轰击工件时，不仅沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层。

四、后处理

冷却出炉：镀膜完成后，需要冷却工件以避免氧化变色。冷却过程中，可以充入氮气或氦气等冷却气体，以提高降温速度。

抛光与清洗：对镀膜后的工件进行抛光和清洗，以去除表面污染物，提高薄膜质量。

其他后处理：根据具体需求，可能还需要进行其他后处理步骤，如AFP处理等，以保护薄膜不受外界环境的影响。

PVD镀膜工艺具有镀层纯度高、附着力强、环保等优点，广泛应用于电子、光学、钢铁、汽车等领域。同时，该工艺也具有一定的技术特点，如可以在金属表面镀覆高硬度、高耐磨性的金属陶瓷装饰镀层等。

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